EUV光刻光源核心部件研究获新进展，上光所锡液滴发生器达到100kHz工作频率

集微网消息，国内权威期刊《激光与光电子学进展》日前发表由中国科学院上海光学精密机械研究所团队提交的《100 kHz重复频率锡液滴靶研究》一文。

根据该文介绍，锡液滴发生器是激光等离子体型极紫外光刻光源中最重要的核心部件之一。光刻光源要求锡液滴靶具备高重复频率、小直径且稳定性好的特性。该论文展示了上海光机所EUV光源团队近来在液滴发生器方面的研究进展，包括液滴直径、重复频率、间距、位置和稳定性等。

现阶段，该所团队研制的锡液滴发生器实验装置，在100 kHz频率下喷射的锡液滴直径~40 μm，间距~230 μm，工作时长接近5h。锡液滴在10 s短时间内，竖直和水平方向的位置不稳定性分别为2 μm和1 μm左右。

不过对比目前商用产品，上述指标仍有较大差距，如2015年ASML产品中采用的液滴靶，可实现液滴直径为27 μm左右，频率50 kHz，液滴间距大于1 mm，最大可到3 mm，液滴30 s短时间内的位置不稳定性~1 μm，连续工作时长一个月以上，液滴直径在20 min内的不稳定性为0.5 μm。

该文表示，未来在锡液滴的可用性性能，如液滴直径、工作时长和长时间的位置稳定性还需进一步提升，相关的探测和分析手段也有待完善，以满足EUV光刻光源对液滴靶的工程需求。